KITECH 생산기술 전문지

본 연구에서는 저온 플라즈마를 활용한 분말 표면처리 모듈을 개발하고, 세라믹 분말에 대한 공정 적용 테스트를 진행하였다. 본 모듈은 Quartz 소재의 회전형 챔버 둘레에 유도코일을 적용함으로서 제한된 공간에서 플라즈마 방전이 이루어지도록 설계되었으며, 미세관 가열 히터 및 시린지 펌프로 구성 된 기화 모듈을 추가로 적용하여 기체 (가스) 뿐만 아니라, 물 (H₂O) 또는 과산화수소 (H₂O₂) 등 액상 전구체 공급이 가능하게 하였다. H₂O 플라즈마 발생을 통해 알루미나 분말에 대한 표면처리 공정을 진행한 후 슬러리 형태로 제조하여 시간 경과에 따른 투과도를 관찰 한 결과, 최적 조건 하에서 상대적으로 낮은 값을 나타내어 분산도가 향상 되었음을 확인할 수 있었다.

키워드 플라즈마, 분말, 표면처리, 슬러리, 분산